粉末原子層沉積系統(tǒng)(PALD)主要用于在高比表面積的粉末顆粒表面構(gòu)筑*薄的納米涂層或活性組分。這種技術(shù)可以明顯提升粉末的物理化學(xué)性能，廣泛應(yīng)用于催化、新能源、粉末冶金等領(lǐng)域。
粉末原子層沉積技術(shù)基于自限制性的化學(xué)半反應(yīng)，通過將目標(biāo)反應(yīng)拆解為若干個(gè)半反應(yīng)，實(shí)現(xiàn)表面涂層的原子層級厚度控制。在沉積過程中，前驅(qū)體被交替地引入反應(yīng)室，并在粉末表面發(fā)生化學(xué)吸附和反應(yīng)，形成單原子層的沉積膜。通過重復(fù)這一過程，可以制備出具有所需厚度和組成的涂層。
工作原理
粉末原子層沉積(PALD)技術(shù)是一種自限制性的化學(xué)氣相沉積手段，通過將目標(biāo)反應(yīng)拆解為若干個(gè)半反應(yīng)，實(shí)現(xiàn)表面涂層的原子層級厚度控制。利用該技術(shù)制備的涂層具有共形、無針孔、均勻的特點(diǎn)，尤其適用于復(fù)雜表面界面和高縱深比樣品的沉積。
應(yīng)用領(lǐng)域
催化：通過在催化劑表面包覆納米涂層，提高催化劑的活性和選擇性。
新能源：用于鋰電材料表面包覆，提升電池的性能和安全性。
粉末冶金：對金屬粉末進(jìn)行表面處理，改善其物理化學(xué)性能。
隨著科技的不斷發(fā)展，粉末原子層沉積技術(shù)也在不斷進(jìn)步和完善。未來，PALD技術(shù)有望在更多領(lǐng)域得到應(yīng)用，并推動(dòng)相關(guān)產(chǎn)業(yè)的創(chuàng)新和發(fā)展。同時(shí)，隨著人們對材料性能要求的不斷提高，對PALD技術(shù)的精度、效率和環(huán)保性等方面的要求也將越來越高。
綜上所述，粉末原子層沉積系統(tǒng)是一種具有高精度、多樣性和高通量等特點(diǎn)的表面改性技術(shù)。它在多個(gè)領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用前景，并有望在未來推動(dòng)相關(guān)產(chǎn)業(yè)的創(chuàng)新和發(fā)展。
