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離子研磨應用技術研究

 更新時間:2021-11-06 點擊量:1974
  對于一般的內(nèi)部結構觀察,使用傳統(tǒng)的機械研磨即可以達到需要的分析效果;但是對于某些精度要求較高或是機械研磨外部應力會產(chǎn)生影響的情況下,使用高精度、無應力的研磨 - 離子研磨就很有必要。
  離子研磨實現(xiàn)的過程中,首先通過一個高壓電極來對氬氣進行電離,從而形成氬離子;繼而再通過一個高壓電場來對氬離子實施加速,經(jīng)過帶有偏轉電場的離子槍頭,使其形成離子束對需要研磨的基材樣品進行轟擊,將樣品表面物質以原子的形態(tài)清除出去,以使得樣品達到無應力研磨的效果。
  我們的離子研磨拋光儀是通過物理科學技術來加強樣品表面特性。使用惰性氣體中具有代表性的氬氣作為氣源,通過加速電壓使其電離并撞擊樣品表面。在控制的范圍內(nèi),通過這種動量轉換的方式,氬氣離子去撞擊樣品表面從而達到無應力損傷的SEM觀察樣品。
  1.雙離子束源
  離子研磨拋光儀1060配有兩束離子束,可以同時聚焦在樣品表面,這樣大大提高了研磨拋光速度。離子束體積小,zui小化了氣體的需求量,但卻能釋放很大的能量。當操作高能量時,即使在低角度的情況下,研磨速度也很快;當操作低能量時,樣品表面材料濺射出的同時也不會帶來其他雜質。
  2.真空艙體和快速樣品傳遞
  SEM離子研磨拋光儀1060的真空艙體保證了設備操作過程中持續(xù)真空,預真空鎖使真空艙體與外部環(huán)境隔離,保證了樣品轉移過程中的真空環(huán)境。小尺寸的樣品艙在后期維護中清理也更加簡便。
  3.實時樣品觀察
  遮板可以阻止濺射的材料干擾樣品觀察。樣品表面上方內(nèi)置光源用以照明。 體視顯微鏡-選配 SEM離子研磨拋光儀可以通過一臺體視顯微鏡做樣品觀察。由于體視顯微鏡的工作距離較大,在研磨的時候可以直接在原處觀察; 高倍率的顯微成像系統(tǒng)-選配 SEM離子研磨切割儀可以配置一臺高倍率的顯微鏡、數(shù)碼相機以及視頻顯示器,通過抓取圖像并將圖像投影到顯示器上,此種方式是制備特定位置樣品的一個理想方式。 當使用高倍顯微成像系統(tǒng)時,樣品將被傳送到預真空鎖的真空環(huán)境中拍照,然后再返回原位置繼續(xù)研磨拋光操作。
  4.可電腦編程控制樣品移動
  離子研磨拋光儀1060具備樣品高度自動感應功能,目前業(yè)界僅我們的1060具備此功能。這也方便了操作者可以通過電腦編程來對樣品進行重復定位、調節(jié)旋轉速度和往復擺動角度。

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